在多晶硅生产过程中，三氯氢硅（SiHCl3）合成、氢还原和四氯化硅（SiCl4）氢化等工序中，副产的尾气，含有氢气（H2）、氯化氢（HCl）、二氯氢硅（SiH2Cl2）、三氯氢硅（SiHCl3）和四氯化硅（SiCl4）的尾气。我公司针对此种尾气气源进行实验研究，开发了氯硅烷和氯化氢专用吸附剂及配套的吸附分离工艺，可以将尾气中的氯硅烷、氯化氢以及氢气进行回收，净化后尾气中的氯硅烷含量降低到ppm及以下，降低了原料消耗，提高企业的经济效益。
采用该技术后，只需对流程适当调整，就可将氢气中的微量组分如CO、CO2、CH4、N2、O2等微量杂质脱除，大大提高氢气品质，使多晶硅的产品质量稳定提高。
公司可根据用户目前装置实际情况，可对现有工艺进行局部改进或全新设计，达到理想的净化回收效果。该技术具有完全的自主知识产权，效果优于进口技术，可为用户带来经济效益、环保效益。
